表(biǎo)面(miàn)處(chù)理(lǐ)設備
RotoVAC 旋转真空(kōng)等離子處(chù)理(lǐ)設備
産品特(tè)征:
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·安(ān)裝(zhuāng)簡單,使用(yòng)簡便 ·處(chù)理(lǐ)时間(jiān)短(duǎn) ·标(biāo)準或定(dìng)制化(huà)的(de)處(chù)理(lǐ)倉 ·真空(kōng)度(dù) ·無需工藝气(qì)體(tǐ) ·控制處(chù)理(lǐ)过(guò)程 ·节(jié)約成(chéng)本 ·真空(kōng)下(xià)的(de)等離子處(chù)理(lǐ) |
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标(biāo)準和(hé)定(dìng)制化(huà)的(de)真空(kōng)等離子處(chù)理(lǐ)設備
Tantec的(de)RotoVAC等離子處(chù)理(lǐ)設備用(yòng)于(yú)處(chù)理(lǐ)小型注塑部(bù)件(jiàn),無需放(fàng)在(zài)支架上或使用(yòng)复雜的(de)搬運機(jī)構。RotoTEC采用(yòng)旋转的(de)圆桶(tǒng)式設計(jì),将處(chù)理(lǐ)産品放(fàng)在(zài)圆桶(tǒng)中(zhōng),再将圆桶(tǒng)放(fàng)入(rù)真空(kōng)腔體(tǐ)中(zhōng)旋转便可(kě)以(yǐ)均勻的(de)處(chù)理(lǐ)到(dào)産品所(suǒ)有(yǒu)表(biǎo)面(miàn)。
在(zài)等離子電(diàn)极(jí)放(fàng)電(diàn)前(qián),處(chù)理(lǐ)倉里(lǐ)会(huì)出現(xiàn)一(yī)个(gè)1至(zhì)4mbar的(de)真空(kōng),因(yīn)此(cǐ)處(chù)理(lǐ)时間(jiān)的(de)非(fēi)常短(duǎn),根(gēn)據(jù)産品的(de)材质和(hé)結構,一(yī)般在(zài)20-180s之(zhī)間(jiān)。
RotoVAC等離子處(chù)理(lǐ)設備具有(yǒu)操作(zuò)簡單、生(shēng)産可(kě)靠性(xìng)高(gāo)、處(chù)理(lǐ)速度(dù)快(kuài)等特(tè)點(diǎn)。可(kě)使用(yòng)氩气(qì)或氧气(qì)等工藝气(qì)體(tǐ),但是(shì)大(dà)多(duō)數情(qíng)况下(xià),等離子放(fàng)電(diàn)産生(shēng)的(de)高(gāo)能(néng)量(liàng)就(jiù)可(kě)以(yǐ)大(dà)大(dà)提(tí)高(gāo)物(wù)體(tǐ)表(biǎo)面(miàn)能(néng)量(liàng),因(yīn)此(cǐ)無需再使用(yòng)这(zhè)些(xiē)工藝气(qì)體(tǐ)。
RotoVAC采用(yòng)先(xiān)進(jìn)的(de)HV-X系(xì)列的(de)放(fàng)電(diàn)發(fà)生(shēng)器,等離子變(biàn)壓器根(gēn)據(jù)電(diàn)极(jí)進(jìn)行設計(jì),並(bìng)为(wèi)其(qí)提(tí)供高(gāo)壓。圆桶(tǒng)的(de)旋转可(kě)保證每个(gè)産品得到(dào)處(chù)理(lǐ)。另(lìng)可(kě)多(duō)配一(yī)个(gè)圆桶(tǒng),以(yǐ)便輪流使用(yòng)。
特(tè)點(diǎn):
·安(ān)裝(zhuāng)簡單,使用(yòng)簡便 連(lián)接電(diàn)源和(hé)壓縮的(de)空(kōng)气(qì)即可(kě)。
·處(chù)理(lǐ)时間(jiān)短(duǎn) 根(gēn)據(jù)産品材质和(hé)結構,一(yī)般在(zài)20-180s内即可(kě)完成(chéng)。
·标(biāo)準或定(dìng)制化(huà)的(de)處(chù)理(lǐ)倉 處(chù)理(lǐ)倉和(hé)圆桶(tǒng)的(de)大(dà)小可(kě)根(gēn)據(jù)实際應(yìng)用(yòng)進(jìn)行設計(jì),一(yī)般情(qíng)况下(xià)
是(shì)标(biāo)準的(de)處(chù)理(lǐ)倉。
·真空(kōng)度(dù) 根(gēn)據(jù)实際應(yìng)用(yòng),真空(kōng)度(dù)一(yī)般在(zài)1-4mbar。
·無需工藝气(qì)體(tǐ) 可(kě)使用(yòng)氧气(qì)和(hé)氩气(qì)等工藝气(qì)體(tǐ),但大(dà)多(duō)數情(qíng)况下(xià)無需使用(yòng)
这(zhè)些(xiē)工藝气(qì)體(tǐ)。
·控制處(chù)理(lǐ)过(guò)程 等離子整个(gè)过(guò)程是(shì)由(yóu)HV-X系(xì)列放(fàng)電(diàn)發(fà)生(shēng)器和(hé)PLC裝(zhuāng)置進(jìn)行控制。
觸摸面(miàn)闆上顯示了(le)所(suǒ)有(yǒu)控制參數(标(biāo)準——proface)
·节(jié)約成(chéng)本 由(yóu)于(yú)能(néng)耗低(dī),不需特(tè)殊的(de)工藝气(qì)體(tǐ),該套(tào)設備大(dà)大(dà)节(jié)約了(le)成(chéng)本,
是(shì)改善物(wù)體(tǐ)表(biǎo)面(miàn)潤湿(shī)性(xìng)和(hé)粘合性(xìng)的(de)最(zuì)佳方(fāng)法(fǎ)。
·真空(kōng)下(xià)的(de)等離子處(chù)理(lǐ) 可(kě)處(chù)理(lǐ)導電(diàn)和(hé)非(fēi)導電(diàn)的(de)物(wù)體(tǐ)表(biǎo)面(miàn)。
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